德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600

使用德國徠卡 鍍膜儀 EM ACE600，充滿(mǎn)信心地制備用于電鏡分析的細粒度薄膜。 精確的自動(dòng)化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產(chǎn)生值得信賴(lài)的可重現結果，提高每次運行的樣本產(chǎn)出。

僅供研究使用

適合廣泛應用領(lǐng)域的高真空鍍膜系統

EM ACE600 濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應用領(lǐng)域。 實(shí)現工作流程目標，滿(mǎn)足實(shí)驗室需求——可在同一個(gè)制備過(guò)程中運行兩個(gè)不同的濺射源，還可配置 EM ACE600 用于高級冷凍工作流程。

通過(guò)方便的前門(mén)裝載方法、僅需按下一個(gè)按鈕即可啟動(dòng)的收料即鍍式自動(dòng)化鍍膜過(guò)程，EM ACE600 可以讓您簡(jiǎn)單可靠地制備常規樣本并節省寶貴的時(shí)間。

無(wú)論您需要……

對扁平或結構化的非導電樣本進(jìn)行高分辨率成像

增強納米級結構（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）的對比度

生成透射電鏡 (TEM) 載網(wǎng)的薄而堅固的支撐層，或者

為敏感樣本提供保護層

擴展冷凍應用中的系統

……>使用 EM ACE600 碳 鍍膜和濺射鍍膜機，皆可實(shí)現。

帶冷凍傳輸裝置的 EM ACE600 碳、電子束和濺射鍍膜機

濺射涂層碳涂層

通過(guò)濺射鍍膜獲得可重現的高品質(zhì)薄膜

使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統，每次運行均可始終一致地生成高品質(zhì)的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動(dòng)化濺射鍍膜工藝，滿(mǎn)足先進(jìn)鍍膜所需的適當條件并實(shí)現可重現的結果。

可進(jìn)行高達 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析，具有出色的基礎真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細均衡調整工藝參數。 根據樣本形態(tài)的需要調整樣本距離和鍍膜角度。

為進(jìn)一步加強鍍膜效果，可以使用 Meissner 捕集器將真空度提高到 10-7 mbar，之后再?lài)L試對氧敏感的濺射靶材或樣本材料。

不同材料的2納米厚的細粒度濺射鍍膜，沉積在 SiOx 基材上，200kX 放大倍率。

超薄碳膜

碳鍍膜在電鏡領(lǐng)域的應用十分廣泛。 它需要具有導電性，但對電子束透明，并且不能具有顆粒結構。

采用自適應脈沖方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅固并具有導電性，還可以通過(guò)烘焙法進(jìn)一步減少污染。 最終，這類(lèi)薄膜提供：

對電子的高透明度

足以承受電子轟擊的強度

均勻的厚度，這對于分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關(guān)重要

A：常規碳膜（15納米碳）；B：超薄碳膜（3納米）。 輕松觀(guān)察硒化鎘 (CdSe) 量子片的晶格。 圖片由比利時(shí) Eva Bladt 和 Sara Bals（EMAT，安特衛普大學(xué)）采集。 提供方： Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方： Daniel Vanmaekelbergh，烏特勒支大學(xué)納米材料科學(xué)研究所（Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht）

按需配置 EM ACE600

通過(guò) EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一臺鍍膜機運行多個(gè)制程。 同時(shí)，將濺射頭與先進(jìn)的碳絲蒸發(fā)器結合使用或者選用兩個(gè)濺射源，可在一次制備過(guò)程中完成多層金屬鍍膜。

采用經(jīng)過(guò)優(yōu)化的帶兩個(gè)斜角端口和一個(gè)旋轉臺的雙源方法，可在整個(gè)100毫米樣本臺上生成均勻分布的薄膜

有穩定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇

為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能

可隨時(shí)在現場(chǎng)升級

適用于雙源的 ACE600 可配置端口。 有以下配置可供選擇： 1- 碳絲蒸發(fā) | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發(fā) | 4- 電子束蒸發(fā)

專(zhuān)注于制備過(guò)程的關(guān)鍵部分

使用 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，只需按下一個(gè)按鈕即可讓您充滿(mǎn)信心地完成常規樣本制備。 簡(jiǎn)單可靠的工作流程和便捷的標準操作程序讓您能夠專(zhuān)注于電鏡樣本制備的關(guān)鍵部分。 您可以專(zhuān)注于優(yōu)化工作流程，減少自己學(xué)習操作方法或培訓他人使用方法的時(shí)間。

通過(guò)前門(mén)安全裝卸敏感樣本

基于工作流程的用戶(hù)界面，可快速訪(fǎng)問(wèn)相關(guān)參數，全程引導式操作

輕量、穩定的濺射源，方便日常操作

EM ACE600 觸摸屏，通過(guò)基于工作流程的用戶(hù)界面操作

擴展至冷凍工作流程

在冷凍條件下為樣本鍍膜，提升實(shí)驗室電鏡實(shí)驗能力。 將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜后，通過(guò) EM VCT500 傳輸系統將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機可幫助制備樣本用于研究，如在生物樣本原生和水合狀態(tài)下的結構分析。

EM ACE600 提供：

用于傳輸冷凍樣本的接口

用于低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍臺

基本型斷裂裝置

選擇優(yōu)化配置

配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，滿(mǎn)足實(shí)驗室日常工作需求。

有各種樣本支架和樣本臺可供選擇，例如帶有多達 3 個(gè)電動(dòng)軸的 3 軸樣本臺或專(zhuān)用冷卻臺。 可快速更換的樣本臺基片使 EM ACE600 成為多功能工具。

1：電動(dòng) 3 軸樣本臺 | 2：旋轉投影（LARS）樣本臺 | 3：旋轉“手動(dòng)"樣本臺 | 4：冷凍臺

旋轉投影—使納米級結構清晰可見(jiàn)

以專(zhuān)用小角度旋轉投影（LARS）設置配置 EM ACE600，可在透射電鏡中對納米級結構（如蛋白質(zhì)或 DNA 鏈）成像。 EM ACE600 電子束源與電動(dòng) LARS 樣本臺將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優(yōu)化的樣本臺幾何結構相結合，可實(shí)現掠角入射沉積。 用細粒度鉑層以小角度對 DNA 鏈進(jìn)行投影鍍膜，然后添加碳層穩定脆性結構，以便在 TEM 中進(jìn)行分析。

出芽酵母（S.cerevisiae，釀酒酵母）的 DNA 復制分叉的 TEM 圖片，使用 EM ACE600 電子束鍍膜機通過(guò)小角度旋轉投影方法獲得

為實(shí)驗選擇合適的工作流程

EM ACE600 有助于您在進(jìn)行材料科學(xué)和生物學(xué)實(shí)驗時(shí)獲得高質(zhì)量的結果。

工作流程包括標準透射電鏡和掃描電鏡樣本制備、切片斷層掃描 3D 工作流程、聚焦離子束掃描電鏡 (FIB SEM) 等。 如需詳細了解以下領(lǐng)域的工作流程解決方案：

生命科學(xué)研究，請下載工作流程手冊

材料科學(xué)研究，請下載工作流程手冊